Zusammenfassung
Mit Hilfe lithographischer Verfahren werden Strukturen in einem strahlungsempfindlichen Lack (Resist), mit dem das zu strukturierende Substrat beschichtet ist, erzeugt. Die Bestrahlung mit Licht, Röntgenstrahlung, Elektronen oder lonen verändert die Löslichkeit des Resists in einer Entwicklerlösung.
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© 1991 Springer Fachmedien Wiesbaden
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Büttgenbach, S. (1991). Technologie der Mikromechanik. In: Mikromechanik. Teubner Studienbücher Angewandte Physik. Vieweg+Teubner Verlag, Wiesbaden. https://doi.org/10.1007/978-3-322-91883-3_4
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DOI: https://doi.org/10.1007/978-3-322-91883-3_4
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