Zusammenfassung
Bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen nimmt die Complementary Metal Oxide Semiconductor (CMOS, dt. komplementärer Metall-Oxid-Halbleiter) – Technologie eine marktbeherrschende Position unter den Prozesstechnologien ein [Puffer 2007, S. 23; Reisch 2007, S. 249]. Daher wird der Herstellablauf von Produkten basierend auf der CMOSTechnologie im Rahmen der Anwendung der entwickelten Planungsmethode betrachtet.
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Keil, S. (2012). Anwendung der Planungsmethode am Beispiel der Halbleiterindustrie. In: Flussorientierte Gestaltung von Produktionssystemen. Springer Gabler, Wiesbaden. https://doi.org/10.1007/978-3-8349-3997-5_5
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DOI: https://doi.org/10.1007/978-3-8349-3997-5_5
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