Skip to main content

Bipolar-Technologie

  • Chapter
  • First Online:
Silizium-Halbleitertechnologie
  • 6364 Accesses

Zusammenfassung

Die Integration von Bipolar-Transistoren wird auf der Grundlage der Standard-Buried-Collector-Technik eingeführt und anschließend durch alternative Isolationsmethoden verbessert. Daran schließt sich die moderne Integrationstechnik mit selbstjustierendem Emitter an. Die Kombination von Bipolar- und MOS-Transistoren auf einem Substrat als BiCMOS-Prozess wird diskutiert.

This is a preview of subscription content, log in via an institution to check access.

Access this chapter

Chapter
USD 29.95
Price excludes VAT (USA)
  • Available as PDF
  • Read on any device
  • Instant download
  • Own it forever
eBook
USD 49.99
Price excludes VAT (USA)
  • Available as EPUB and PDF
  • Read on any device
  • Instant download
  • Own it forever

Tax calculation will be finalised at checkout

Purchases are for personal use only

Institutional subscriptions

Literatur

  1. Ruge, I., Mader, H.: Halbleiter-Technologie, S. 232 ff. Springer, Berlin (1991)

    Google Scholar 

  2. Sze, S.M.: VLSI Technology, S. 499–502. Mc Graw-Hill, New York (1991)

    Google Scholar 

  3. Hilleringmann, U.: Mikrosystemtechnik auf Silizium, S. 181–188. Teubner Verlag, Stuttgart (1995)

    Google Scholar 

  4. Chen, W.-K.: The VLSI Handbook, S. 2–17 ff. CRC Press, Boca Raton (2000)

    Google Scholar 

Download references

Author information

Authors and Affiliations

Authors

Corresponding author

Correspondence to Ulrich Hilleringmann .

Rights and permissions

Reprints and permissions

Copyright information

© 2014 Springer Fachmedien Wiesbaden

About this chapter

Cite this chapter

Hilleringmann, U. (2014). Bipolar-Technologie. In: Silizium-Halbleitertechnologie. Springer Vieweg, Wiesbaden. https://doi.org/10.1007/978-3-8348-2085-3_12

Download citation

Publish with us

Policies and ethics