Zusammenfassung
In diesem Kapitel sollen ausführlich die Vorgänge im realen Festkörper während und nach der Implantation behandelt werden, wobei auch hier der Schwerpunkt bei Halbleitern liegt und deshalb nur die Implantation in Kristalle betrachtet wird. Die Implantation in amorphe oder polykristalline Festkörper wird nur dann gestreift, wenn bemerkenswerte Unterschiede auftreten.
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© 1978 B. G. Teubner, Stuttgart
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Ryssel, H., Ruge, I. (1978). Probleme bei der Implantation in reale Festkörper. In: Ionenimplantation. Vieweg+Teubner Verlag, Wiesbaden. https://doi.org/10.1007/978-3-663-05668-3_3
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DOI: https://doi.org/10.1007/978-3-663-05668-3_3
Publisher Name: Vieweg+Teubner Verlag, Wiesbaden
Print ISBN: 978-3-519-03206-9
Online ISBN: 978-3-663-05668-3
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