Zusammenfassung
Die theoretischen Grundlagen der Ionenimplantation wurden in den letzten Jahren fußend auf den Arbeiten von Bohr [92], [93] und Rutherford [604] entwickelt. Es handelt sich um Theorien zur Reichweiteverteilung implantierter Ionen, zur Energieabgabe der Ionen während der Implantation bzw. zur Verteilung der erzeugten Strahlenschädigung durch diesen Beschuß und Theorien zum unterschiedlichen Verhalten im Eindringen von Ionen in amorphe und kristalline Festkörper (Channeling-Effekt).
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© 1978 B. G. Teubner, Stuttgart
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Ryssel, H., Ruge, I. (1978). Grundlagen der Ionenimplantation. In: Ionenimplantation. Vieweg+Teubner Verlag, Wiesbaden. https://doi.org/10.1007/978-3-663-05668-3_2
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DOI: https://doi.org/10.1007/978-3-663-05668-3_2
Publisher Name: Vieweg+Teubner Verlag, Wiesbaden
Print ISBN: 978-3-519-03206-9
Online ISBN: 978-3-663-05668-3
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