Messung der p_H-Änderung in der photographischen Schicht während der Entwicklung

Zusammenfassung

Nach der Theorie werden bei der Entwicklung der photographischen Schicht mit organischen Entwicklersubstanzen Wasserstoffionen frei, welche bisher nur an der geringen p_H-Abnahme der Entwicklerlösung festgestellt werden konnten. Es wurde vermutet, daß wegen der langsamen Diffusion in der photographischen Schicht an der Stelle der Entwicklung der p_H-Wert viel stärker erniedrigt wird, als in der Entwicklerlösung gemessen werden kann.

Es wurde nun durch Beschichten einer Flachmembranglaselektrode mit einer photographischen Schicht ein brauchbares Modell geschaffen, welches die Messung des p_H-Wertes an der vom Entwickler abgewandten Unterseite der Schicht gestattet. Der Entwicklungsprozeß wird durch Blitzbelichtung der in der Entwicklerlösung eingetauchten beschichteten Glaselektrode ausgelöst.

Durch gleichzeitige Beblitzung von in analoger Weise beschichteten und im Entwickler eingetauchten Glasplatten konnte parallel zur p_H-Änderung die Bildung der Silberschwärzung verfolgt werden. Die Messungen wurden bei verschiedenen Silberaufträgen und in Entwicklern unterschiedlicher Pufferkapazität ausgeführt.

Die Meßergebnisse wurden mit Zeitabläufen verglichen, welche nach dem Schema der aufgestellten Reaktionsgleichungen mit der elektronischen Rechenmaschine errechnet wurden.

Herr Dr. Dettmar gehört der Ingenieur-Abteilung Angewandte Physik der Farbenfabriken Bayer A. G. an und hat die mathematische Arbeit bei Aufstellung der Differentialgleichungen sowie die Programmierung für die elektronische Rechenmaschine ausgeführt.