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Das Verhalten photographischer Schichten bei Elektronenbestrahlung (II)

  • Conference paper
Mitteilungen aus den Forschungslaboratorien der Agfa Leverkusen-München

  • 17 Accesses

Zusammenfassung

Die Eigenschaften photographischer Schichten bei Elektronenbestrahlung wurden bereits in früheren Arbeiten theoretisch und experimentell untersucht [1, 2].

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Authors and Affiliations

  1. Institut für wissenschaftliche Photographie, Technischen Hochschule München, Luisenstr. 27, Deutschland

    Prof. Dr. H. Frieser

  2. Armed Forces Institute of Pathology, Washington 25, D. C., USA

    Dr. E. Zeitler

Authors
  1. Prof. Dr. H. Frieser
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  2. E. Klein
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  3. Dr. E. Zeitler
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© 1961 Springer-Verlag Berlin Heidelberg

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Frieser, H., Klein, E., Zeitler, E. (1961). Das Verhalten photographischer Schichten bei Elektronenbestrahlung (II). In: Mitteilungen aus den Forschungslaboratorien der Agfa Leverkusen-München. Mitteilungen aus den Forschungslaboratorien der Agfa-Gevaert AG, Leverkusen-München, vol 3. Springer, Berlin, Heidelberg. https://doi.org/10.1007/978-3-662-22172-3_13

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  • DOI: https://doi.org/10.1007/978-3-662-22172-3_13

  • Publisher Name: Springer, Berlin, Heidelberg

  • Print ISBN: 978-3-662-22173-0

  • Online ISBN: 978-3-662-22172-3

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