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Das Verhalten photographischer Schichten bei Elektronenbestrahlung (II)

  • H. Frieser
  • E. Klein
  • E. Zeitler
Conference paper
Part of the Mitteilungen aus den Forschungslaboratorien der Agfa-Gevaert AG, Leverkusen-München book series (AGFA, volume 3)

Zusammenfassung

Die Eigenschaften photographischer Schichten bei Elektronenbestrahlung wurden bereits in früheren Arbeiten theoretisch und experimentell untersucht [1, 2].

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Copyright information

© Springer-Verlag Berlin Heidelberg 1961

Authors and Affiliations

  • H. Frieser
    • 1
  • E. Klein
  • E. Zeitler
    • 2
  1. 1.Institut für wissenschaftliche PhotographieTechnischen Hochschule MünchenLuisenstr. 27Deutschland
  2. 2.Armed Forces Institute of PathologyUSA

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