Zusammenfassung
Der vorliegende Bericht befaßt sich mit der Wirkung von Elektronen auf photographische Schichten unter besonderer Berücksichtigung der Verwendungsmöglichkeit solcher Schichten für die Elektronenmikroskopie; es werden in erster Linie Experimente ausgewertet, bei denen die Belichtungen mit der in der Elektronenmikroskopie üblichen Beschleunigungsspannung von ca. 40 bis 100 KV durchgeführt sind.
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Weitere Untersuchungen photographischer Schichten bei Elektronenbestrahlung siehe auch: Neider, R.: Diplomarbeit, Berlin 1954/55, Fritz-Haber-Institut. Neider, R.: Vortrag Darmstadt 1957, Tagung der deutschen Gesellschaft f. Elektronenmikroskopie.
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Frieser, H., Klein, E. (1958). Die Eigenschaften photographischer Schichten bei Elektronenbestrahlung. In: Mitteilungen aus den Forschungslaboratorien der Agfa Leverkusen-München. Mitteilungen aus den Forschungslaboratorien der Agfa Leverkusen-München, vol 2. Springer, Berlin, Heidelberg. https://doi.org/10.1007/978-3-662-22170-9_10
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