Zusammenfassung
Die Plasmanitrier- und Beschichtungsversuche wurden in der nachfolgend beschriebenen Anlage durchgeführt. Dabei wurde eine konventionelle Plasmanitrieranlage (Herstellerfirma Eltropuls, D-Baesweiler, Heißwandhaubenofen, Nutzvolumen D = 600 mm × H = 900 mm, Heizleistung ca. 50 kW, Stromversorgung ca. 25 kVA) zu einer PACVD-Anlage weiterentwickelt, so daß eine Plasmanitrierung und anschließende plasmaunterstützte CVD Hartstoffbeschichtung in einem Verfahrensablauf vorgenommen werden kann. Um die Voraussetzung für das eigentliche Arbeitsziel — die Kombinationsbeschichtung — zu schaffen, mußten umfangreiche und aufwendige Vorversuche mit unterschiedlichem apparativem Aufbau durchgeführt werden. Nachfolgend werden nicht alle vorgenommenen Maßnahmen, sondern nur noch die erfolgreich eingesetzten Apparatekombinationen beschrieben.
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© 1998 Springer-Verlag Berlin Heidelberg
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Morlok, O. (1998). Versuchsaufbau zur Schichtherstellung. In: Die Kombination von Plasmanitrierung und plasmagestützter Schichtabscheidung aus der Gasphase (PACVD) in einem Verfahrensablauf. IPA-IAO — Forschung und Praxis, vol 268. Springer, Berlin, Heidelberg. https://doi.org/10.1007/978-3-662-06656-0_4
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