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Diffusionstechnik

  • Waldemar von Münch
Part of the Technische Physik in Einzeldarstellungen book series (TECHNISCHEPHYSI, volume 16)

Zusammenfassung

Die Diffusion von Donatoren und Akzeptoren ist eine in der Halbleitertechnologie weit verbreitete Methode zur Herstellung von inhomogenen Störstellenverteilungen, insbesondere in Form von pn-Übergängen. In der Siliziumplanartechnik werden alle Bauelemente (Transistoren, Dioden, Widerstände) im wesentlichen durch Anwendung des Diffusionsverfahrens gefertigt, wobei die maskierende (diffusionshemmende) Wirkung von SiO2-Schichten zur lateralen Begrenzung der Bauelemente dient. Die Diffusionstechnik ist auch ein für die Herstellung von GaAs-Bauelementen wichtiges Hilfsmittel, jedoch müssen bei der Diffusion in Galliumarsenid erhebliche Schwierigkeiten technologischer Natur in Kauf genommen werden.

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Copyright information

© Springer Verlag Berlin Heidelberg 1969

Authors and Affiliations

  • Waldemar von Münch
    • 1
  1. 1.Institut für HalbleitertechnikRheinisch-Westfälischen Technischen Hochschule AachenDeutschland

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