Zusammenfassung
Der Cu+-Laser ist ein Metallionenlaser, bei dem im Gegensatz zu den bekannten Kupferdarapflasern angeregte Kupferionen in einer Edelgashohlkathodenentladung das Lasermedium bilden /1/. Die notwendige Meta1ldampferzeugung erfolgt dabei einfach durch entladungsbedingtes Sputtering aus geeignetem Kathodenmaterial, die Ionisierung des Kupfers und die Anregung ins obere Laserniveau erfolgt über einen sehr effektiven Ladungsaustauschprozess rait den Edelgasionen. Der Anregungsmechanismus, sowie die wichtigsten Laserübergänge sind im vereinfachten Termschema (Fig. 1) dargestellt.
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Literatur
D.C. Gerstenberger et al., IEEE J. Quant. Electron. QE-16, p. 820 (1980)
W.K. Schubel, Appl. Phys. Lett 30, p. 516 (1977)
H.-J. Eichler et al., J. Appl. Phys. 61, p. 2069 (1987)
H.-J. Eichler et al., Proc. 6th Int. Conf. Laser 83, Springer, p. 292 (1984)
H.-J. Eichler et al., Opt. Commun. 61, p. 61 (1987)
J. Hamisch, U. Müller, J. Phys. E. (to be published)
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© 1987 Springer-Verlag Berlin Heidelberg
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Hamisch, J., Macdonald, R., Müler, U., Yu, J. (1987). Hohlkathoden Cu+-Laser. In: Waidelich, W. (eds) Laser/Optoelektronik in der Technik / Laser/Optoelectronics in Engineering. Springer, Berlin, Heidelberg. https://doi.org/10.1007/978-3-642-83174-4_1
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