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Zusammenfassung

In der Raster-Elektronenmikroskopie kann man Oberflächen fester Objekte direkt abbilden, wenn sie

  1. 1.

    sauber (frei von Belegungen) sind,

  2. 2.

    hoehvakuumbeständig sind (ihre Form nicht verändern und nicht gasen),

  3. 3.

    sich unter Elektronenbeschuß nicht verändern,

  4. 4.

    keine störenden Aufladungen zeigen sowie

  5. 5.

    eine hinreichend hohe Sekundärelektronen-Ausbeute liefern.

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Reimer, L., Pfefferkorn, G. (1977). Präparation. In: Raster-Elektronenmikroskopie. Springer, Berlin, Heidelberg. https://doi.org/10.1007/978-3-642-81112-8_8

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