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Erzeugung von Strukturen in der Halbleiter-Technologie (Mikro-Lithografie) — Elektronenoptisch

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Erzeugung und Analyse von Bildern und Strukturen

Part of the book series: Informatik-Fachberichte ((INFORMATIK,volume 29))

  • 56 Accesses

Zusammenfassung

Eine komplexe Summe technischer und wirtschaftlicher Gründe — z.B. geringere Verzögerungszeit oder Verlustleistung einerseits und höhere Ausbeute pro Scheibe andererseits — veranlaßt die Hersteller integrierter Schaltungen, die Einzeldimensionen der planaren Strukturen immer weiter zu verringern, wobei die Scheibenfläche oftmals noch vergrößert wird. Dieser Trend stellt Anforderungen an die Mikrolithografie, die über die Leistungsfähigkeit der heute eingesetzten lichtoptischen Verfahren hinausgehen werden.

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Literaturverzeichnis

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Authors and Affiliations

  1. Forschungsinstitut Ulm, AEG-TELEFUNKEN, Postfach 1730, 7900, Ulm/Donau, Deutschland

    Th. Ricker

Authors
  1. Th. Ricker
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Editors and Affiliations

  1. Institut für Medizinische Informatik und Systemforschung (MEDIS) der Gesellschaft für Strahlen- und Umweltforschung m.b.H., Arabellastraße 4/III, 8000, München 81, Deutschland

    S. J. Pöppl

  2. Institut für Informationstechnik der TU München, Lehrstuhl für Nachrichtentechnik, Arcisstraße 21, 8000, München 2, Deutschland

    H. Platzer

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© 1980 Springer-Verlag Berlin · Heidelberg

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Ricker, T. (1980). Erzeugung von Strukturen in der Halbleiter-Technologie (Mikro-Lithografie) — Elektronenoptisch. In: Pöppl, S.J., Platzer, H. (eds) Erzeugung und Analyse von Bildern und Strukturen. Informatik-Fachberichte, vol 29. Springer, Berlin, Heidelberg. https://doi.org/10.1007/978-3-642-67687-1_7

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  • DOI: https://doi.org/10.1007/978-3-642-67687-1_7

  • Publisher Name: Springer, Berlin, Heidelberg

  • Print ISBN: 978-3-540-10130-7

  • Online ISBN: 978-3-642-67687-1

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