Layout-Erstellung mit ICgraph

Zusammenfassung

Bei integrierten Halbleiterschaltungen lassen sich Entwurf und Herstellung klar trennen. Die Schnittstelle ist der technologiespezifische Maskensatz. Die Masken werden aus dem IC-Layout erzeugt, das die gesamte geometrische Information für alle Strukturen des ICs in hierarchischer Form enthält. In bezug auf den SRAM-Entwurf bedeutet dies, daß Layoutstrukturen für alle Funktionsblöcke benötigt werden, die dann zum Gesamtlayout zusammengesetzt werden können. In diesem Kapitel werden die Methoden vorgestellt, mit denen Maskenlayouts der Grundzellen des SRAMs entworfen werden können. Wie man aus diesen Grundzellen ein komplettes Maskenlayout generiert, behandelt Kap. 12.