Zusammenfassung
Gasteilchen, die auf eine Festkörperoberfläche treffen, können hier, wenn man von chemischen Wirkungen (Getterung) absieht, durch Adsorption oder durch Kondensation fixiert werden. Im Fall der Adsorption kommt es mit den artfremden Molekülen der Unterlage zu einer Wechselwirkung, die mit wachsender Bedeckung abnimmt. Bei der Kondensation besteht die Unterlage aus arteigenen Teilchen, und die Wechselwirkung ist im Prinzip unabhängig von der bereits kondensierten Menge. Sowohl die Kryosorption als auch die Kondensation kommen durch van der Waals-Kräfte zustande [3.1 – 3.3].
Access this chapter
Tax calculation will be finalised at checkout
Purchases are for personal use only
Preview
Unable to display preview. Download preview PDF.
Literatur
Lennard-Jones, J.E.: Proc. R. Soc. London A 163 (1937) 127
McCarrol, B.; Ehrlich, G.: J. Chem. Phys. 38 (1963) 523;
McCarrol, B.; Ehrlich, G.: J. Chem. Phys. in: Rutner et al., (eds.), Condensation and evaporation of solids. New York: Gordon and Breack 1964
Hirth, I.P.; Pound, G.M.: Progress in materials science, condensation and evaporation. 11 (1963) Pergamon Press
Rutner, E.: J. Vacuum Sci. Technol. 4 (1967) 368
Klipping, G.; Mascher, W.: Vak. Tech. 11 (1962) 81;
Klipping, G.; Mascher, W.: Z. Angew. Phys. 16 (1963) 471
Mascher, W.: Diss. TU Berlin 1967
Bächler, W.; Klipping, G.; Mascher, W.: Trans. Nat. Vac. Symp. 9 (1962) 216
Bachner, D.; Koelzer, W.; Müller, D.: Forschungsberichte des Landes Nordrhein-Westfalen, Nr. 1643, 1966. Köln, Oplanden: Westdeutscher Verlag
Chubb, J.N.: 3rd Int. Vac. Congr. (1965) II/1, p. 97
Chubb, J.N.; Pollard, I.E.: Vacuum 15 (1965) 491
Thibault, J.J.; Roussel, J.; Nanoboff, A.: Proc. 1st Int. Cryog. Eng. Congr. (1966) 20
Foner, S.N.; Mauer, F. A.; Bolz, L.H.: J. Chem. Phys. 31 (1959) 546
Göhre, H.: 2. Europ. Symp. Vak. (1963) 112
Holland, L.; Priestland, C.: 3rd Int. Vac. Congr. (1965) II, 141
Baker, M.A.; Holland, L.: J. Vac. Sci. Technol. 6 (1969) 951
Levenson, L.L.: Nuovo Cimento, Suppl. 5 (1967) 321.
Levenson, L.L.: J. Vac. Sci. Technol. 8 (1971) 629
Bryson III, C.E.; Cazcarra, V.; Chouarain, M.; Levenson, L.L.: J. Vac. Sci. Technol. 9 (1972) 557
Bryson III, C.E.; Cazcarra, V.; Levenson, L.L.: J. Vac. Sci. Technol. 10 (1973) 310
Bryson III, C.E.; Cazcarra, V.; Levenson, L.L.: J. Vac. Sci. Technol. 11 (1974) 411
Brown, R.F.; Heald, J.R.: Adv. Cryog. Eng. 13 (1968) 243
Brown, R.F.; Caldwell, R.L.; Busby, M.R.: Appl. Phys. Lett. 14 (1969) 219
Arnold, F.; Busby, M.R.; Dawbarn, R.: AEDC-TR-70–172 (1970)
Busby, M.R.; Haygood, J.D.; Link, C.H.: AEDC-Tr-70–131 (1970)
Bentley, P.D.; Hands, B.A.: Proc. Int. Vac. Congr. 7 (1977) 73
Chubb, J.N.; Gowland, L.; Pollard, I.E.: 5th Symp. Fusion Technology, Oyford 1968.
Chubb, J.N.; Gowland, L.; Pollard, I.E.: Brit. J. Appl. Phys. D1 (1968) 361
Benvenuti, C.; Calder, R.S.: Phys. Lett. 25A (1971) 291
Benvenuti, C.: J. Vac. Sci. Technol. 11 (1974) 591
Benvenuti, C.; Calder, R.S.; Passardi, G.: J. Vac. Sci. Technol. 13 (1976) 1172
Lee, T.J.; Gowland, L.; Reddish, V.C.: Nature Phys. Sci. 231 (1971) 193
Lee, T.J.: J. Vac. Sci. Technol. 9 (1972) 257
Lee, T.J.: Proc. ICEC 3 (1970) 388
Honig, R.E.; Hook, H.O.: RCA Review 21 (1960) 360–368
Landolt-Börnstein: Zahlenwerte und Funktionen, 6. Aufl. Band 2, Teil 2a. Berlin, Göttingen, Heidelberg: Springer 1960
Grilly, E.R.: Cryogenics 2 (1962) 226
Borovik, E.S.; Grishin, S.F.; Grishina, E.Ya.: Zhur. Tekhn. Fiz. 30 (1960) 506
Buffham, B.A.; Henault, P.B.; Flinn, R.A.: Vac. Symp. Trans. 9 (1962) 205
Moody, T.L.: AEDC-Tr-66–231 (1967)
Brown, R.F.; Wang, E.S.J.: ARO, July 1964
Hengevoss, J.: Trans. 3rd Int. Vac. Congr. (1965) 51
Wang, E.S.J.; Collins, J. A.; Haygood, J.D.: Adv. Cryog. Eng. 7 (1961) 44
Sänger, G.: DFVLR-Bericht DLRFB 64–17 (1964) 320
Dawson, I.P.; Haygood, I.D.; Collins, I.A. jr.: Adv. Cryog. Eng. 9 (1963) 443
Arnold, F.; Busby, M.R.; Dawbarn, R.: Entropie Nr. 42 (1971) 84
Nocilla, S.: Entropie Nr. 49 (1973) 37
Mayer, H., in: Schneider, H.G.; Ruth, V. (eds.), Adv. in endotaxy and epitaxy. Leipzig: 1971, p. 63
Niedermayer, R.: in: Schneider, H.G.; Ruth, V. (eds.), Adv. in endotaxy and epitaxy. Leipzig: 1971 p. 21
Chopra, K.L.: Thin film phenomena, New York: McGraw-Hill 1969
Kossel, W.: Nachr. Ges. Wiss. Göttingen, Math. phys. Kl. 135 (1927)
Stranski, I.N.: Z. Phys. Chem. 136 (1928) 259
Knacke, O.; Stranski, I.N.: Erg. exakt. Naturwiss. 26 (1952) 383
Frenkel, I.: Z. f. Physik (USSR) 9 (1945) 392
Eyring, H.; Gladstone, S.; Laidler, K.I.: The theory of rate processes. New York: McGraw-Hill 1941, p. 211
Roussel, J.; Thibault, J.J.; Nanoboff, A.: Le Vide Nr. 118 (1965) 249
Eder, F.X.: Vak. Tech. 21 (1972) 76
Armand, G.: Surf. Sci. 9 (1968) 145
Goodman, F. O.: Progr. Surf. Sci. 5, Part 3 (1974)
Volmer, M.: Kinetik der Phasenbildung. Dresden, Leipzig 1939, S. 80
Frank, F.C.: Disc. Faraday Soc. 5 (1948) 48
Burton, W.K.; Cabrera, N.; Frank, F.C.: Philos. Trans. R. Soc. (London) A243 (1951) 299
Heyer, H.: Angew. Chem. 78 (1966) 130
Haefer, R.A.: Unveröffentlicht
Yuferov, V.B.; Bulatova, R.F.; Kobzev, P.M.; Kosan, VS.: Sov. Phys.-Tech. Phys. 13 (1968) 238
Stranski, I.N.; Kaischew, R.: Z. Phys. Chem. B 26 (1934) 100, 317
Pound, G.M.; Karge, H., in: Niedermayer, R.; Mayer, H. (eds.). Basic problems in thin film physics, 1966, p. 19
Hemstreet, R.A.; Hamilton, I.R.: J. Chem. Phys. 34 (1961) 948
Dallügge, W.: Diss. TU Berlin 1971
Manzhelii, V.G.; Tolkatschow, A.M.; Woitowitsch, E.E.: Phys. Stat. Sol. 13 (1966) 351
Landolt-Börnstein: Zahlenwerte und Funktionen, 6. Aufl., Band 4, Teil 4. Berlin, Heidelberg, New York: Springer 1967
Gmelin: Handb. d. Anorg. Chemie, 8. Aufl., 1970
Caren, R.P.; Gilcrest, A.S.; Zierman, C.A.: Adv. Cryog. Eng. 9 (1964) 457
Rotgers, K.W.: NASA CR-553 (1966)
Schulze, W.; Kolb, D.M.; Klipping, G.: Proc. ICEC 5 (1974) 268
Rosenberg, H.M.: Low temperature solid state physics, Oxford: Clarendon Press 1963, p. 43 ff
White, G.K.; Woods, S.B.: Phil. Mag. 3 (1958) 785
Daney, D.E.: Cryogenics 11 (1971) 290
Ratcliffe, E.H.: Phil. Mag. 7 (1962) 1197
Hill, R.W.; Schneidmesser, B.: Z. Phys. Chem., NF 16 (1958) 257
Wilks, I.: Nuovo Cimento, Suppl. X, 9 (1958) 84
Roder, H.M.: Cryogenics 2 (1962) 302
Pitman, D.; Zuckerman, B.: J. Appl. Phys. 38 (1967) 2698
Moore, B.C.: Trans. Vac. Symp. 9 (1962) 212
Cunningham, T.M.; Young, R.L.: Adv. Cryog. Eng. 8 (1962) 85
Merriam, R.L.; Viscanta, R.: Adv. Cryog. Eng. 14 (1969) 240
Ockman, N.: Adv. Phys. 1 (1958) 199
Osberb, W.E.; Hornig, D.F.: J. Chem. Phys. 20 (1952) 1345
Dahlke, W.Z.: Z. Phys. 102 (1936) 360
Smith, H.B.; Irey, R.K.: Adv. Cryog. Eng. 15 (1970) 463
Dawson, J.P.; McCullough, M.; Wood, B.E.; Birkebak, R.: ARO Rept. No. AEDC-TR-65–94 (1965)
Eisenstadt, M.M.: J. Vac. Sci. Technol. 7 (1970) 479
Gammon, R.B.: Vacuum 22 (1972) 579
Erents, K.; McCracken, G.M.: Vacuum 21 (1971) 257
Smith, A.M.; Tempelmeyer, K.E.; Muller, P.R.; Wood, B.E.: AIAA J. 7 (1969) 2274
Thanh, N.V.; Levenson, L.L.: J. Vac. Sci. Technol. 14 (1977) 471
Author information
Authors and Affiliations
Rights and permissions
Copyright information
© 1981 Springer-Verlag Berlin Heidelberg
About this chapter
Cite this chapter
Haefer, R.A. (1981). Kondensation von einheitlichen Gasen. In: Kryo-Vakuumtechnik. Springer, Berlin, Heidelberg. https://doi.org/10.1007/978-3-642-49985-2_3
Download citation
DOI: https://doi.org/10.1007/978-3-642-49985-2_3
Publisher Name: Springer, Berlin, Heidelberg
Print ISBN: 978-3-540-10167-3
Online ISBN: 978-3-642-49985-2
eBook Packages: Springer Book Archive