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Objekteinrichtungen

  • W. D. Riecke
  • Nobuji Sasaki
  • Ryuzo Ueda
  • Noboru Arai
  • K. Hiziya
  • H. Hashimoto
  • M. Watanabe
  • K. Mihama
  • I. G. Stojanowa
  • H. G. Heide
  • M. Watanabe
  • I. Okazaki
  • G. Honjo
  • K. Mihama
  • I. Okazaki
  • M. Watanabe
  • K. Mihama
  • M. J. Whelan
  • I. G. Stojanowa
  • E. M. Belawzewa

Zusammenfassung

Bei der Untersuchung von Objekten mit Hilfe der Elektronenbeugung ist es wichtig, die Probe relativ zum Elektronenstrahl ausrichten zu können. Dies ist besonders bei der Beugungsuntersuchung massiver Präparate notwendig, weil hier die Elektronen fast streifend unter einem kleinen Winkel einfallen müssen. Dabei ist es vorteilhaft, wenn sich die Auftreffstelle der Elektronen während der Ausrichtung nicht auf der Oberfläche verschiebt. Die Justierung wird außerdem sehr erleichtert, wenn man sich neben der Beugung durch gleichzeitige lichtmikroskopische Beobachtung ein Bild von der Beschaffenheit der Probenoberfläche machen kann.

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Copyright information

© Springer-Verlag OHG. Berlin · Göttingen · Heidelberg 1960

Authors and Affiliations

  • W. D. Riecke
    • 1
  • Nobuji Sasaki
    • 2
  • Ryuzo Ueda
    • 2
  • Noboru Arai
    • 2
  • K. Hiziya
    • 3
  • H. Hashimoto
    • 4
  • M. Watanabe
    • 3
  • K. Mihama
    • 3
  • I. G. Stojanowa
    • 5
  • H. G. Heide
    • 1
  • M. Watanabe
    • 6
  • I. Okazaki
    • 6
  • G. Honjo
    • 7
  • K. Mihama
    • 6
  • I. Okazaki
    • 6
  • M. Watanabe
    • 6
  • K. Mihama
    • 6
  • M. J. Whelan
    • 8
  • I. G. Stojanowa
    • 5
  • E. M. Belawzewa
    • 5
  1. 1.Institut für Elektronenmikroskopie am Fritz-Haber-Institut der Max-Planck-GesellschaftBerlin-DahlemDeutschland
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  4. 4.Kyoto Techn. Univ.KyotoJapan
  5. 5.Institut für Elektronenoptik des Staatskomitees für RadioelektronikMoskauRussland
  6. 6.Japan Electron Optics Lab. Co., Ltd.TokyoJapan
  7. 7.Tokyo Inst, of Techn.TokyoJapan
  8. 8.Cavendish LaboratoryUniversity of CambridgeEngland

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