Zusammenfassung
In einer Analyse der ionenunterstützten PVD-Verfahren werden die physikalisch-chemischen Mechanismen bei einem Ionenbeschuß mit niederenergetischen Ionen (bis 1000 eV) während des Beschichtungsprozesses dargestellt. Die aus der ionenunterstützten Abscheidung resultier renden Vorteile in den Gebrauchseigenschaften einer Beschichtung sind vielfaltig, basieren je-doch fast ausschließlich auf einem Verbessern der Mikrostruktur abgeschiedener Schichten in-folge des Ionenbeschusses. Die Ursache dieser Tatsache hegt darin, daß der Ionenbeschuß die physikalischen Vorgänge an der Oberfläche beschleunigt oder überhaupt erst ermöglicht.
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Olbrich, W. (1994). Zusammenfassung. In: Entwicklung und Optimierung von Prozeßkomponenten zur ionenunterstützten Abscheidung bei PVD-Verfahren. IPA-IAO — Forschung und Praxis, vol 202. Springer, Berlin, Heidelberg. https://doi.org/10.1007/978-3-642-47892-5_10
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