Zusammenfassung
Die physikalische Abscheidung aus der Gasphase (Physical Vapor Deposition, PVD) ist ein junges Fertigungsverfehren der Oberflächentechnik. Mit PVD-Verfahren lassen sich dünne Schichten im Bereich einiger Nanometer bis zu einigen Mikrometern auf vielen Werkstücken erzeugen. Durch die Beschichtung lassen sich gezielt die Eigenschaften der Werkstückober-fläche verändern. Die Oberfläche dient bei allen Bauteilen als Schnittstelle zu ihrer Umwelt und wird folglich vielfältig beansprucht. Sie muß chemischen, mechanischen oder thermischen Be-lastungen standhalten und übernimmt oft eine zusätzliche Funktion, die dekorativ, tribologisch oder optisch wirksam ist. Diese Aufgabenfelder lassen sich in vielen Fällen mit PVD-Beschich-tungen abdecken.
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Olbrich, W. (1994). Einleitung. In: Entwicklung und Optimierung von Prozeßkomponenten zur ionenunterstützten Abscheidung bei PVD-Verfahren. IPA-IAO — Forschung und Praxis, vol 202. Springer, Berlin, Heidelberg. https://doi.org/10.1007/978-3-642-47892-5_1
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