Anwendung des Verfahrens am Beispiel der Konzeption einer automatischen Fertigungszelle zur Waferkontaminationsmessung

Zusammenfassung

Im Rahmen der Entwicklung einer automatischen Fertigungszelle zur Messung der partikulären Kontamination von Wafern soll die Anwendbarkeit des entwickelten Verfahrens in der Praxis erprobt werden. Der Grund für die Entwicklung der Fertigungszelle liegt am großen Bedarf an sauberen Wafern bzw. an Wafern mit bekannter partikulärer Kontamination für Meßzwecke (Sedimentationsuntersuchungen), wobei die Zahl der verfügbaren Wafer begrenzt ist. Ziel der Entwicklung ist es daher, die Wafer automatisch auf Partikelkontamination zu untersuchen und dem Anwender definierte Reinheitsklassen an Wafern zur Verfügung zu stellen.