Zusammenfassung
Mitunter ist es bereits bei der Höchstreinigung der Halbleitermaterialien (Abschnitt 2) möglich, Halbleitereinkristalle von so hoher Kristallqualität herzustellen, wie sie für die Bauelementfertigung erforderlich ist. In diesem Abschnitt werden die drei wichtigsten Methoden der Einkristallzüchtung beschrieben, nämlich
-
Wachstum aus der Schmelze
-
Wachstum aus der Lösung
-
Wachstum aus der Gasphase
wobei insbesondere bei den beiden letztgenannten Methoden auf die für die Halbleiter-Technologie wichtig gewordene Epitaxie eingegangen wird.
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© 1981 B. G. Teubner Stuttgart
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Harth, W. (1981). Methoden der Einkristall-Herstellung. In: Halbleitertechnologie. Teubner Studienskripten Elektrotechnik. Vieweg+Teubner Verlag. https://doi.org/10.1007/978-3-322-94051-3_4
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Print ISBN: 978-3-519-10054-6
Online ISBN: 978-3-322-94051-3
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