Zusammenfassung
Die Strukturierung von dünnen Schichten und Halbleiteroberflächen spielt eine zentrale Rolle in der Halbleitertechnologie. Dabei lassen sich verschiedene Methoden der Strukturdefinition und der Strukturerzeugung anwenden.
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Literaturhinweise
W. S. DeForest, Photoresists, Materials and Processes, McGraw-Hill, New York 1975
D. Leers, Solid-State Technol. 24/4 (1981) 90
Landolt-Börnstein, Zahlenwerte und Funktionen aus Naturwissenschaften und Technik. Neue Serie Bd. III/17c Halbleiter: Technologie von Si, Ge und SiC, Springer-Verlag, Berlin, Heidelberg, New York, Tokyo 1984
A. Heuberger, Microelectronic Eng. 5 (1986) 3
G. R. Brewer, Electron-Beam Technology in Microelectronic Fabrication, Academic Press, New York 1980
A. Bogenschütz, Ätzpraxis für Halbleiter, Hanser-Verlag, München 1967
J. J. Kelly, J. E. A. M. v.d. Meerakker, P. H. L. Notten, R. P. Tilburg, Philips Tech. Rev. 44 (1988) 61
R. A. Morgan, Plasma Etching in Semiconductor Fabrication, Elsevier, Amsterdam 1985
S. J. Moss, A. Ledwith, Chemistry of the Semiconductor Industry, Blackie and Son Ltd., Glasgow 1987
J. L. Vossen, W. Kern, Thin Film Processes, Academic Press, New York 1978
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© 1993 B. G. Teubner Stuttgart
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von Münch, W. (1993). Strukturierung. In: Einführung in die Halbleitertechnologie. Vieweg+Teubner Verlag. https://doi.org/10.1007/978-3-322-88970-6_6
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Publisher Name: Vieweg+Teubner Verlag
Print ISBN: 978-3-519-06167-0
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