Zusammenfassung
Nach dem Entwurf einer Schaltung auf Transistorebene muß für die Schaltungsintegration ein Maskenlayout erstellt werden, mit dessen Hilfe die Halbleitertechnologen anschließend den Halbleiterchip fertigen können.
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© 1989 B. G. Teubner Stuttgart
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Post, HU. (1989). Layout. In: Entwurf und Technologie hochintegrierter Schaltungen. Leitfäden und Monographien der Informatik. Vieweg+Teubner Verlag. https://doi.org/10.1007/978-3-322-84815-4_3
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DOI: https://doi.org/10.1007/978-3-322-84815-4_3
Publisher Name: Vieweg+Teubner Verlag
Print ISBN: 978-3-519-02267-1
Online ISBN: 978-3-322-84815-4
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