Intensive Elektronen- und Ionenstrahlen pp 225-233 | Cite as
Elektronenoptische Sondensysteme
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Zusammenfassung
Elektronenoptische Systeme von Elektronenstrahlschweißanlagen gehören zur Klasse der elektronenoptischen Systeme, die als konzentrierende Systeme bezeichnet werden [142]. Sie dienen der Formierung von Elektronenstrahlen mit geringen transversalen Abmessungen sowie hohen Stromdichten und Leistungen. Ein für eine Schweißanlage charakteristisches Schema wird in Bild 9.1 dargestellt. Eine Elektronenkanone 1 gewährleistet die primäre Formierung und Beschleunigung eines Elektronenstrahls, eine magnetisch fokussierende Linse 2 sammelt (konzentriert) den Elektronenstrahl in einem Fokus mit geringen Radius (der eigentlichen Elektronensonde) und ein Ablenksystem 3 ermöglicht es, den Elektronenstrahl auf die Schweißnaht zu lenken und somit auch Schweißungen mit komplizierten Konturen vorzunehmen. Die für das Elektronenstrahlschweißen geforderte Leistungsdichte im Fokus beträgt 106 – 107 W cm−2. Typische Werte der Beschleunigungsspannung und des Stromes in elektronenoptischen Systemen von Schweißanlagen liegen in den Bereichen U a = 30… 100 kV und I = 0,1… 1 A [143].
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