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Verhandlungen pp 346-349 | Cite as

Zum Einfluß von Bildfehlern und Beleuchtung auf die Abbildung von Kristallstrukturen

  • P. Schiske

Zusammenfassung

Für die Abbildung eines ungestörten Gitters ist sicher nicht das aus dem Öffnungsfehler bestimmte Punktauflösungsvermögen maßgebend. Es sind vielmehr mehrere optische Größen, deren Einflüsse auf die Abbildung für sich genommen jeweils leicht verständlich sind, über deren Gesamtheit man aber durch systematische Überlegungen Übersicht gewinnen muß. Dies kann durch die Betrachtung der optischen Weglänge geschehen, die man als Funktion des Quellpunkts r Q und des Durchstoßpunktes r S des Strahles mit der Schirmebene berechnen muß. Ein von einem Quellpunkt kommendes Bündel spaltet sich am Kristall in mehrere Bündel auf, deren Interferenz in der Bildebene die periodischen Muster erzeugt. In Abb. 1 sind zwei Bündelausschnitte, die zur 0-ten bzw. zur j-ten Beugungsordnung gehören, welche sich in der Bildebene gerade decken, bis zu ihrer gemeinsamen Quelle zurückverfolgt. Infolge der Bildfehler und der Defokussierung decken sich die beiden Bündel in der Objektebene nicht. Es sind daher einem Bildpunkt im allgemeinen verschiedene Objektpartien zugeordnet.

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Literatur

  1. 1.
    Haine, M. E., and T. Mulvey: J. sci. Instrum. 31, 326 (1954).ADSCrossRefGoogle Scholar
  2. 2.
    Zernike, F.: Physica 5, 785 (1938).ADSCrossRefGoogle Scholar
  3. 3.
    Menter, J. W.: Proc. roy. Soc. 236, 119 (1956).ADSCrossRefGoogle Scholar
  4. 4.
    Glaser, W.: Grundlagen der Elektronenoptik. S. 408. Wien: Springer 1952.CrossRefGoogle Scholar

Copyright information

© Springer-Verlag Berlin Heidelberg 1960

Authors and Affiliations

  • P. Schiske
    • 1
  1. 1.Institut für Elektronenmikroskopie am Fritz-Haber-InstitutMax-Planck-GesellschaftBerlin-DahlemDeutschland

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