Beschreibung einer Apparatur zur Herstellung dünner Schichten aus Gasentladungen bei Drucken von kleiner als 10⁻³ Torr und tiefen Temperaturen

Zusammenfassung

Die besonderen Möglichkeiten, die mit der von H. König inaugurierten Methode der Schichtabscheidung aus Kohlenwasserstoffen erzielbar sind, werden in der elektronenmikroskopischen Präparationstechnik zu wenig beachtet. Besonders gilt das, wenn die Entladung bei tiefen Drucken erfolgt (vgl. R. Haefer, Londoner Tagung 1954). Der Anwendungsbereich kann nun neuerlich erweitert und die Qualität der Schichten verbessert werden, wenn die Temperatur des Auffängers und der Umgebung von −200° bis + 400° C geregelt und gemessen wird. Die dann erhaltenen Schichten sind verschiedentlich den durch Aufdampfen gewonnenen überlegen. Ähnliches gilt nach Versuchen von O. Reiter und R. Ziegelbecker für Schichten, aus Hochfrequenzentladungen abgeschieden, da auch hier der Druck (10⁻⁴ Torr) günstig gewählt werden kann. Diese Arbeiten wurden in den letzten Jahren besonders unterstützt und gefördert durch Herrn Prof. Th. G. F. Schoon (Indonesian Foundation for Rubber Research and Development, Bogor). Versuche und verschiedene Apparateentwicklungen wurden von G. Sorge und R. Ziegelbecker durchgeführt.