Zusammenfassung
In der Einleitung wird die Entwicklung der Mikroelektronik mit der Planartechnik als Grundlage vorgestellt. Ganzflächige Schichtabscheidungen lassen sich mithilfe der Fotolithografie und einer Ätztechnik in lokale Veränderungen der Oberfläche transformieren. Dabei wird auf die Bedeutung der im Folgenden behandelten Einzelprozesse hingewiesen.
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Literatur
ITRS: https://www.semiconductors.org/clientuploads/Research_Technology/ITRS/2015/0_2015%20ITRS%202.0%20Executive%20Report%20(1).pdf (2015). Zugegriffen am 01.07.2018
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Hilleringmann, U. (2019). Einleitung. In: Silizium-Halbleitertechnologie. Springer Vieweg, Wiesbaden. https://doi.org/10.1007/978-3-658-23444-7_1
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