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Oberflächenanalytische Charakterisierung von metallischen Verunreinigungen und Oxiden auf GaAs

  • Authors
  • Frank Schröder-Oeynhausen

Table of contents

  1. Front Matter
    Pages 1-11
  2. Frank Schröder-Oeynhausen
    Pages 13-16
  3. Frank Schröder-Oeynhausen
    Pages 17-28
  4. Frank Schröder-Oeynhausen
    Pages 29-50
  5. Frank Schröder-Oeynhausen
    Pages 51-74
  6. Frank Schröder-Oeynhausen
    Pages 75-121
  7. Frank Schröder-Oeynhausen
    Pages 122-123
  8. Frank Schröder-Oeynhausen
    Pages 124-138
  9. Back Matter
    Pages 139-140

About this book

Introduction

Inhalt dieses Buches ist die detaillierte Charakterisierung der Oberfläche von GaAs-Halbleitern hinsichtlich oberflächennaher Verunreinigungen und passivierender Oxidschichten. Der Autor entwickelt ein Verfahren zum quantitativen Nachweis von metallischen Spurenelementen mit der Flugzeit-Sekundärionenmassenspektrometrie (TOF-SIMS), das es möglich macht, Oberflächenbelegungen auf GaAs mit Konzentrationen kleiner 109 Atome/cm2 quantitativ nachzuweisen. Ein Vergleich passivierender Oxide hinsichtlich ihrer Komponenten, Schichtstruktur und Dicke liefert die Grundlagen für gezielte Änderungen des Herstellungsprozesses.

Keywords

Chemische Analyse Elektronik Galliumverbindungen Halbleiter Kristall Massenspektrometrie Nanotechnologie Photoelektronenspektroskopie Produktion Spektrometrie Vertrieb Verunreinigung

Bibliographic information

  • DOI https://doi.org/10.1007/978-3-322-95365-0
  • Copyright Information Deutscher Universitäts-Verlag | Springer Fachmedien Wiesbaden GmbH, Wiesbaden 1997
  • Publisher Name Deutscher Universitätsverlag
  • eBook Packages Springer Book Archive
  • Print ISBN 978-3-8244-2091-9
  • Online ISBN 978-3-322-95365-0
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