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adhäsion KLEBEN & DICHTEN

, Volume 57, Issue 6, pp 47–47 | Cite as

Weiterentwickelte Misch- und Dosieranlage

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Rampf Dosiertechnik präsentierte auf der Messe Chinaplas 2013, die vom 20. bis zum 23. Mai in Guangzhou, China, stattfand, die Niederdruck-Misch- und Dosieranlage DC-CNC 800, die mit zahlreichen technischen Neuerungen aufwartet. Unter anderem verfügt die Anlage über eine verbesserte Materialaufbereitung mit größeren Tanks, sodass Kleingebinde komplett in einem Vorgang umgefüllt werden können.

Der Einsatz dieser Misch- und Dosieranlage empfiehlt sich insbesondere für den zwei- oder dreidimensionalen Materialauftrag von Verguss-, Dichtungs- und Klebstoffsystemen. Im Grundaufbau verfügt die Anlage über eine integrierte Materialaufbereitung und kann wahlweise mit Kolben- oder Zahnradpumpen ausgestattet werden.

Weitere Features sind die modulare Steuerung und die integrierte Prozessüberwachung zur permanenten Kontrolle von Drücken, Füllständen und Drehzahlen. Die Misch- und Dosieranlage kann optional mit einem HD-Spülmittelrückführsystem oder einer HD-Wasserspülung sowie anwendungsabhängigen Automatisierungseinrichtungen ausgestattet werden.

Im Vergleich zum Vorgängermodell verfügt diese Anlage u.a. über eine verbesserte Materialaufbereitung für eine materialschonendere Homogenisierung und eine schnellere Entgasung. Auch die Zugänglichkeit für Wartungsarbeiten an den Dosierpumpen und der Steuerung wurde deutlich verbessert.

Auf der Chinaplas 2013 wurde vor Ort das Applizieren eines Dichtungsschaummaterials demonstriert, das sich durch eine geringe Wasseraufnahme, gute mechanische Festigkeit und hohe Wärmebeständigkeit auszeichnet. Aufgrund der kurzen Klebfreizeit des Materials von weniger als drei Minuten kann das abgedichtete Bauteil schnell weiterverarbeitet werden.

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© Springer Fachmedien Wiesbaden 2013

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